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外延片構成:
外延片指的是在襯底上生長出的半導體薄膜,薄膜主要由P型、量子阱、N型三個部分構成。
外延片需要清洗嗎:
外延片在測量阻值之前需要進行清洗,常用的清洗工藝步驟包括:清洗、甩干,然后測量。
外延片屬于半導體行業,半導體材料在制備過程中,每一道工序都涉及到清洗,而且清洗的好壞直接影響下一道工序,甚至影響器件的成品率。
VGT-1509FH超聲波清洗機:
外延片清洗用到的清洗機配置得有溢流槽與干燥槽。威固特VGT-1509FH超聲波清洗機共有15個功能槽,配置有循環過濾系統、浸泡系統、自動恒溫系統、溢流系統、拋動系統、超聲波清洗系統、慢拉脫水系統、熱風烘干系統等。其中清洗部分與慢拉熱風干燥部份分別獨立電器控制,設備采用環保型有機溶劑洗滌、水溶劑清洗、純水漂洗、慢拉脫水熱風烘干,為環保型清洗機。
超聲波清洗是基于空化作用,即在清洗液中無數氣泡快速形成并迅速內爆。氣泡是在液體中施加高頻(超聲頻率)、高強度的聲波而產生的。因此,任何超聲清洗系統都必須具備三個基本元件:盛放清洗液的槽、將電能轉化為機械能的換能器以及產生高頻電信號的超聲波發生器。
清洗設備的能力為3-8分鐘(可調)清洗一籃。
超聲水劑清洗槽:
1、每槽設四面溢流口,溢水槽寬35mm,各槽均為獨立循環槽,由循環泵將洗劑由儲液箱抽出經過濾后再運回清洗槽,即子目槽循環。
2、設置獨立循環過濾系統。
3、配置第四代超聲波發生器,從根本上保證超聲波到有效轉換率,保證超聲波效果并保證超聲波發生器質量到穩定性。
4、超聲波發生器內設單片機,內附特有到定時系統,可根據生產需要任意調整清洗時間并形成一對一的設置,定時更具靈活性,保證清洗到一致性。
5、儲液箱的設置是由隔板分成兩腔,分油后的清潔溶液經循環泵重新抽入清洗槽,實現自我循環,提高溶液到利用率,而分離后到油排放到總排管。
超聲回用純水漂洗槽:
1、設置獨立槽。
2、槽底部設排液閥。
3、槽外設置拋動。
4、設有加熱系統。
慢拉脫水槽:
1、槽體設齒狀溢流結構,純水由純水預熱箱進入。槽外貼保溫棉厚10mm。
2、槽體設“OMRON”數顯溫控系統,檢測槽內工作溫度,溫控范圍:常溫-120℃。
3、槽體上部設抽風小孔,將溢出水蒸汽抽走,防止水氣再次附著于提出到產品上。
4、在烘干槽頂部加設FFU系統,有效減少環境對洗凈效果到影響。(工件加溫后,對灰塵的附著力增強,FFU形成負壓可有效減少環境對洗凈效果到影響,從而根本上提高產品合格率)。